> Lithographie par faisceau d'électrons VB6 UHR EWF

Manufacturier : Vistec Lithography (Raith)

 

Rôle de l'appareil

 Le Vistec VB6 est un outil de lithographie par faisceau d’électrons capable de définir et de positionner des motifs avec une résolution de l’ordre du nanomètre.

 

Spécifications techniques

• Accélération: 0 – 100 keV
• Courant: 100 pA – 100 nA
• Taille des champ: jusqu’à 1200 um
• Résolution: selon le procédé. Une résolution de 25 nm est routinière sans développement ultrasonique.
• Précision d’alignement: Précision de 5 nm à 35 nm selon la taille du champ.
• Vitesse du faisceau: 50 MHz
• Résolution de l’adresse: 20 bits
• Porte échantillon disponible:
- Gaufres: 50 mm, 75 mm, 100 mm, 125 mm, 150 mm, 200 mm.
- Photomasques: 125 mm, 150 mm, NIST X-RAY Holder
- Pièces: 1 cm et plus
• Ajustement automatique du focus durant l'écriture
• Plateau intelligent avec précision de placement de 0.6 nm

 

Accessoires

• CAD acceptant la plupart des formats standards tels GDSII, DXF, etc…
• Correction des effets de proximité

 

Exemples de procédés et de services disponibles

• Cristaux photonique
• Réseau de Bragg
• Prototype de photomasque
• Moule maître pour nano impression

Tarif Académique | Industriel :
150 $/h | 500 $/h

 

 

maN2403
ZEP520A

Plots de 60nm de résine électrosensible négative (maN2403)

Lignes de 11nm de résine électrosensible positive (ZEP520A)

 

Align-Nano

Electrode d'Or autour d'un plot de 200nm Nickel obtenu par Lift-Off et alignement automatique du faisceau d'électron