> Lithographie Laser DWL-66 FS

Manufacturier : Heidelberg

 

Rôle de l'appareil

Le Heidelberg DWL 66FS est un outil de lithographie laser capable de définir et de positionner des motifs de l’ordre du micromètre.

 

Spécifications techniques

• Résolution: 0.8 µm ligne isolée, 1 µm lignes denses
• Précision d’alignement: selon la résolution: de 200 nm à 2000 nm
• Laser diode, longueur d’onde: 405 nm
• Vitesse d’écriture: selon la résolution: de 1 mm²/min à 290 mm²/min
• Formats acceptés: la plupart des formats standards sont acceptés tels GDSII, DXF, GERBER, CIF, etc…

 

Accessoires

• Lithographie 3D par niveaux de gris (32 tons)

 

Exemples de procédés et de services disponibles

• Écriture de photomasque sur chrome
• Écriture directe de structures photonique

Tarif Académique | Industriel :
75 $/h | 150 $/h

 

DWL

Détail d'un photomasque obtenu par Lithographie Laser
et gravure sèche du Cr par plasma