> Évaporateur e-beam AXXIS

Manufacturier : Kurt J. Lesker

 

Rôle de l'appareil

   L’évaporateur AXXIS de K. J. Lesker est un outil de déposition de couches minces très versatile. Sa chambre horizontale maintien l’échantillon au centre de l’enceinte ce qui permet les dépôts à angle et en rotation. De plus, le porte échantillon peut être orienté vers le port du haut pour de la pulvérisation, vers le côté pour une source d’ions ou vers le bas pour une évaporation.

 

Spécifications techniques

• Source 1: Canon d’électrons avec 4 creusets avec sélection automatique.
• Source 2: Pulvérisation cathodique avec cible de 75 mm et source AC
• Source 3: Source d’ions pour assistance durant l’évaporation ou pré-nettoyage.
• Porte échantillon: pièces de 5 mm jusqu’aux gaufres de 150 mm. Rotation avec angle de 0 à 180 degrés.
• Contrôle in-situ sur l’épaisseur des films déposés
• Gestion de recette par ordinateur

Accessoires

• Porte échantillon refroidi.
• Plusieurs matériaux disponibles: Au, Al, Ti, Cu, Cr, Pt, Pd, SiO2, etc..

 

Exemples de procédés et de services disponibles

• Dépôt mulitcouches métallique pour circuits micro-ondes avec pré-nettoyage à jet d’ions
• Dépôt de couches pour mirroir diélectrique (IAD, ion assisted deposition)
• Pulvérisation réactive d’oxyde métallique
• Création de nanostructures par évaporation à angle rasant (Glancing Angle Deposition)
• Déposition de chrome pour photomasques

Tarif Académique | Industriel :
55 $/h | 120 $/h