> Graveur ICP au Fluor

Manufacturier : Oxford Instruments

 

Rôle de l'appareil

   Le Plasmalab system 100 est un outils de gravure utilisant un plasma de haute densité configuré pour la gravure de SiO2, de SiN, de Poly Si, de 'shallow' Si et de matériaux similaires utilisés dans le fabrication de micro et nano dispositifs.

 

Spécifications techniques

• Source plasma haute densité ICP de 380 mm (générateur 2MHz, 5kW)
• Électrode inférieure de 240 mm (13.56MHz, 600 W) avec accord d'impédance automatique et hauteur variable
• Refroidissement/Chauffage de l'électrode (-150° C à 400° C)
• Dispositif de serrage des échantillons et contact thermique à l'He
• Porte échantillon: de petits morceaux jusqu'aux gauffres de 200 mm
• Pression typique d'opération: 1- 100 mtorr
• Contrôlé sous Windows XP avec recettes programmables

 

Accessoires

• Gaz disponibles : SF6, C4F8, CF4, O2, H2, N2, He, Ar
• Chargement rapide des échantillons (loadlock)
• Système de détection de fin de gravure par interferometrie Laser
• Nettoyage automatisé de la chambre

 

Exemples de procédés et de services disponibles

• Gravure anisotropique de SiO2 pour la fabrication de moules de 'nanoimprint'
• Gravure anisotropique de SiN pour la fabrication de guides d'ondes optiques

Tarif Académique | Industriel :
80 $/h | 180 $/h

 

 

SiO2-30nmHP

Gravure nanométrique anisotrope de SiO2 (réseau de lignes de 60nm de largeur espacées de 30nm) utilisé comme moule de Nanoimprint

 

Quartz_Etch

Gravure anisotrope de Quartz (sur 80um de profondeur des deux côtés d'une tranche de 200um d'épaisseur) pour des applications MEMS sur Quartz